产品名称：PCL-SS-PEG-TCO，聚己内酯-双硫键-聚乙二醇-反式环辛烯的合成与修饰控制
1. 合成与修饰控制
PCL 合成：
ε-己内酯通过开环聚合（ROP）生成 PCL，通过 H NMR 验证结构（δ=2.3-2.4 ppm, PCL 亚甲基质子；δ=4.0-4.1 ppm, PCL 酯基质子）。
SS 键引入：
PCL 末端通过巯基化反应（如 Trauts 试剂）引入巯基（-SH），再与 PEG 末端的吡啶二硫基（Py-SS-PEG）反应，形成双硫键连接。
PEG 连接：
SS-PEG 通过酯键或酰胺键与 TCO 连接，反应条件为 DMF/PBS（pH 8.5），DIEA 催化，室温过夜。
TCO 修饰：
PEG 末端通过酰胺键连接 TCO（如 TCO-NHS），反应条件为室温反应 2-4 小时，TCO 与 PEG 的摩尔比为 1:1-1:5。
纯化：
透析（MWCO 3500 Da）或凝胶柱层析（Sephadex G-25）去除未反应原料，确保产物纯度 >95%。
2. 纳米颗粒制备
自组装：
将 PCL-SS-PEG-TCO 与药物（如阿霉素）按比例（10:1-50:1）溶解于有机溶剂（如氯仿），通过纳米沉淀法或乳化法形成纳米颗粒，粒径控制在 80-200 nm。
药物包载：
疏水药物通过物理包裹或共价连接（如 SS 键）实现高包封率（>90%）。
TCO 表面修饰：
纳米颗粒表面 TCO 与 Tetrazine 标记的配体（如抗体、荧光探针）在生理条件（PBS，pH 7.4，室温）下孵育 10-30 分钟，完成快速标记。
温馨提示：仅用于科研，不能用于人体实验！wyh


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