CY5-硫酸新霉素（CY5-Neomycin sulfate）是一种长波长荧光标记化合物，由荧光染料CY5与硫酸新霉素通过化学偶联形成。该分子结合了CY5的近红外荧光特性和新霉素的水溶性及化学活性，可用于分子探针开发、荧光标记、材料修饰及分子追踪分析。

化学结构与性质

CY5-Neomycin sulfate通过CY5染料的活性官能团（如NHS酯或马来酰亚胺）与新霉素的氨基形成共价偶联结构。CY5染料吸收峰约649–650 nm，发射峰约667–670 nm，量子产率高、光稳定性优异。偶联新霉素后，分子在保持CY5长波长荧光特性的同时，增加了水溶性和分子稳定性。

CY5-Neomycin sulfate在水溶体系中分散均匀，偶联结构减少染料自聚和荧光淬灭，保证光照或储存条件下的稳定信号输出。

光学性能

CY5-Neomycin sulfate的近红外发射特性使其适合低背景、高灵敏度检测。偶联新霉素后，分子在水溶液及缓冲体系中荧光稳定，适合分子追踪、分析研究和高信噪比实验。

名称：CY5-硫酸新霉素
用途：科研
状态：固体/粉末/溶液
保存：冷藏
供应：西安瑞禧生物科技有限公司

应用领域

1. 分子标记与探针开发
   CY5-Neomycin sulfate可用于小分子及氨基化合物体系的高选择性荧光标记，实现分子追踪和定量分析。

2. 近红外荧光分析与成像
   长波长发射降低背景干扰，适用于水溶体系、材料表面及高分子体系的高灵敏度荧光检测。

3. 功能材料修饰
   偶联新霉素提供化学修饰位点，可用于聚合物、纳米颗粒或其他材料表面标记，实现可追踪、可视化和功能化材料开发。

化学稳定性与操作注意

CY5-Neomycin sulfate在常温避光条件下化学稳定。操作时应避免强氧化剂和极端pH条件。使用水溶体系时，可根据缓冲液和溶解条件优化分子分散性和光学性能。

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