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Home > Products > Synthetic chemistry> 生物纳米系列> CVD法 泡取式铜基底单层石墨烯薄膜
CVD法 泡取式铜基底单层石墨烯薄膜
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产品性质




薄膜颜色:无色透明




产品牌号: JCGRPFCU




方阻:单层A 300-600 Ω/□ 单层B 700-1500 Ω/□ 少层 500-1200Ω/□






石墨烯薄膜生长在铜箔的表面,生长的层数为单层或少层(小于10层)。该薄膜完整性高,单层覆盖率高,导电性好,迁移率可达~6000cm2/vs。






“泡-取”式石墨烯是将铜基底石墨烯旋涂上一层有机聚合物保护膜(客户省去了这一步骤),并经过背部超净处理得到的。这种石墨烯非常方便,可以直接放到刻蚀液里把铜刻蚀掉,再转移到去离子水里漂洗掉刻蚀液即可使用。由于已经对其进行了洁净处理,这种方法得到的石墨烯干净程度很高,客户可以在刻蚀液里“泡”掉铜基底“取”出石墨烯,根据自己的需求很方便的转移到需要的地方。




本产品应密封保存于干燥环境中,且温度低于35℃。严禁与易挥发物质和污染源接触。远离火源。




备注:A级单层覆盖率大于97% ,B级单层覆盖率大于85%,少层石墨烯厚度10 层以内,可提供定制服务


西安瑞禧生物科技有限公司提供多种科研试剂材料。 
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